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科華微電子亮相科技周

欄目:公司新聞 發(fā)布時(shí)間:2021-05-26

科華微電子亮相科技周

百年回望、崇尚科學(xué)、自立自強(qiáng),2021年全國(guó)科技周近日開(kāi)幕。北京科華微電子材料入選2021年北京市順義區(qū)科技活動(dòng)周參展企業(yè)。

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科華微電子248nm光刻膠新品在本屆科技周中亮相。順義區(qū)委常委、副區(qū)長(zhǎng)徐曉俊、順義區(qū)科委黨組書(shū)記、主任袁日晨;科技企業(yè)代表、清華大學(xué)專(zhuān)家等出席啟動(dòng)儀式。
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KMP DK3050是高活化能體系的高分辨深紫外正性光刻膠,適用于12寸邏輯電路制程55nm節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵離子注入層,在光硅基底上有良好的工藝窗口和解析度,符合工藝需求的垂直形貌。
啟動(dòng)儀式后,與會(huì)領(lǐng)導(dǎo)和嘉賓共同參觀了主題展廳??萍贾茏?月24日開(kāi)幕至5月28日結(jié)束
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北京科華微電子材料有限公司2010年承擔(dān)了國(guó)家02科技重大專(zhuān)項(xiàng)“248nm光刻膠研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目,2014年完成產(chǎn)業(yè)化正式形成銷(xiāo)售。十年間,北京科華的248nm光刻膠產(chǎn)品從無(wú)到有,從1款非關(guān)鍵層產(chǎn)品小批量銷(xiāo)售發(fā)展至今,科華微電子的KrF光刻膠產(chǎn)品應(yīng)用涵蓋了AA/poly/metal關(guān)鍵層以及TM/TV、Implant 、Contact /Hole等,目前已有7款產(chǎn)品在客戶(hù)端形成批量銷(xiāo)售,進(jìn)入中芯國(guó)際、上海華力微電子、長(zhǎng)江存儲(chǔ)科技、武漢新芯、上海華虹宏力等國(guó)內(nèi)主流用戶(hù)中批量使用;同時(shí)有5款新品在客戶(hù)端驗(yàn)證。其中KMP DK1080榮獲第十二屆(2017年度)中國(guó)半導(dǎo)體創(chuàng)新產(chǎn)品和技術(shù)獎(jiǎng);KMP DK1089榮獲第二十二屆(2020年度)中國(guó)國(guó)際高新技術(shù)成果交易會(huì)優(yōu)秀產(chǎn)品獎(jiǎng),科華微電子的248nm光刻膠已經(jīng)進(jìn)入了快速增長(zhǎng)軌道。

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KMP DK1081是低活化能體系的高分辨深紫外正性光刻膠,適用于8寸邏輯電路制程180nm節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵金屬層,同時(shí)適用于8寸邏輯130nm及12寸64層存儲(chǔ)的離子注入層,在光硅基底及抗反射層基底上都具有良好的工藝窗口和解析度。

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KMP DK2060是低活化能體系的高分辨深紫外正性光刻膠,適用于8寸邏輯電路制程150nm節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵孔洞層,同時(shí)適用于12寸邏輯55nm及12寸64層存儲(chǔ)的非關(guān)鍵孔洞層,在光硅基底及抗反射層基底上都具有良好的工藝窗口和解析度。